(2013) План развития п/п технологий (ITRS), новый план/прогноз 2013 г.
VAL |
|
Offline

Мэтр, проФАН любви... proFAN of love
    
Профиль
Группа: Администраторы
Сообщений: 38049
Пользователь №: 1
Регистрация: 6.03.2004

|
Новый стратегический план развития полупроводниковых технологий (ITRS) (план/прогноз 2013 г.) Источник: http://www.russianelectronics.ru/leader-r/review/doc/58377/(ресурс "Время электроники", 20 февраля) Автор: Владимир Фомичёв QUOTE | Что будет с микроэлектроникой в ближайшей (до 2018 г.) и отдаленной (до 2026 г.) перспективе? Какие технологии будут доминировать? Об этом специалисты думают уже сейчас. |
QUOTE | Ассоциация Semiconductor Industry Association (SIA) опубликовала план ITRS (International Technology Roadmap for Semiconductors – «Международный проект развития полупроводниковых технологий»), который был представлен в Инчхоне, Южная Корея, в декабре прошлого года. Этот проект поддерживается странами Европы, Японией, Кореей, Тайванем и США, а за его выполнением следит ассоциация SIA – рупор американских производителей полупроводников.
Значение проекта ITRS Предусматривая решение вопросов на ближайшую (до 2018 г.) и отдаленную перспективу (2019–2026 гг.), а также инновационное развитие отрасли, этот план представляет видение того, в каком направлении пойдет проектирование и производство полупроводников до 2026 г. Цель этого плана – предвидеть возможные трудности, чтобы позволить отрасли и сообществу разработчиков своевременно с ними справиться. Одной из главных проблем, стоящих перед индустрией, является её способность идти в ногу с законом Мура (см. рис.), т.е. обеспечить соответствующее увеличение производительности систем при снижении размеров полупроводниковых элементов. |
QUOTE | Главные задачи на краткосрочный период (до 2018 г.) Проект ITRS должен учитывать требования новой эпохи, когда будут достигнуты теоретические пределы масштабирования КМОП-структуры. В связи с этим отрасли предстоит решить такие проблемы как формирование рисунка на пластинах, усовершенствованные материалы, проектирование непланарных структур, токи утечки через переход, управление техпроцессом и технологичность.
Масштабирование планарных КМОП-структур будет сопряжено со значительными трудностями, т.к. стандартные методы уменьшения изолирующего слоя затвора, его длины и повышение концентрации примесей в канале скоро не будут отвечать требованиям приложений по таким показателям как производительность и энергопотребление. Для решения этой задачи помимо совершенствования управления техпроцессом потребуется создание новых архитектур устройств.
В ближайшей перспективе в области методов проектирования останутся такие задачи как управление питанием, проектная производительность и проектирование с учетом технологических требований. Проектная производительность продолжает оставаться в центре внимания стратегического плана развития отрасли, т. к. экономические показатели масштабирования зависят, главным образом, от возможности вывести новую электронную продукцию на рынок с низким риском за меньшее время. С точки зрения вариативности производственных технологий и надежности схем, проектная производительность неразрывно связана с необходимостью совершенствования дизайна с учетом технологических требований. В то же время энергопотребление стало ключевым техническим параметром, который определяет возможность масштабирования полупроводников. Вопрос управления питанием электронных устройств стал настолько важным, что стратегия совершенствования технологий проектирования энергоэффективных устройств была включена в раздел проекта ITRS Design. Помимо того, концепция More-Than-Moore (период времени после прекращения действия закона Мура – новая область микро- и наноэлектроники, которая реализуется с помощью методов, отличающихся от традиционных полупроводниковых технологий и приложений) становится необходимым компонентом масштабирования полупроводниковой продукции. Наконец, в документе ITRS большее внимание стало уделяться гетерогенным системам, в т. ч. РЧ- и аналого-цифровым блокам. |
--------------------
|
|
|
VAL |
|
Offline

Мэтр, проФАН любви... proFAN of love
    
Профиль
Группа: Администраторы
Сообщений: 38049
Пользователь №: 1
Регистрация: 6.03.2004

|
--------------------
|
|
|
1 Пользователей читают эту тему (1 Гостей и 0 Скрытых Пользователей)
0 Пользователей: